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三星成功研发EUV光罩护膜,透光率88%

2023/1/20 0:35:16

来源:韩媒 ETNews 

据韩媒报道,三星于2022年底已完成透光率达88%的光罩护膜研发,并掌握量产技术。业界指出,三星投入EUV光罩护膜研发,主要为了应对未来需求和供应多元化。

光罩护膜用于半导体曝光制程,可以大幅减少制程污染,减少光罩损伤。EUV用光罩价格达数亿韩元(1亿韩元约8万美元),使用光罩护膜可降低成本,特别是在5nm以下先进制程,光罩管理开始受到重视,光罩护膜的需求也相应提升。

目前EUV光罩护膜市场由独家供应EUV曝光设备的荷兰ASML、及日本三井化学(Mitsui Chemicals)主导。随着光罩护膜的需求因EUV制程普及而提升,对海外厂商的依赖度将提高,为了供应链的稳定,需先行展开投资。

据悉,台积电也为了确保EUV用光罩护膜投入产品研发,业界预测,2023年EUV光罩护膜需求将比2022年增加近2倍。

2023首场晶芯研讨会

诚邀各企业参与2023年2月23日,晶芯研讨会开年首场会议将以“先进封装与键合技术驶入发展快车道”为主题,邀请产业链代表领袖和专家,从先进封装、键合设备、材料、工艺技术等多角度,探讨先进封装与键合工艺技术等解决方案。点击跳转报名链接:http://w.lwc.cn/s/VnuEjy

深圳芯盛会

3月9日,与行业大咖“零距离”接触的机遇即将到来,半导体业内封装专家将齐聚深圳,CHIP China晶芯研讨会诚邀您莅临“拓展摩尔定律-半导体先进封装技术发展与促进大会”现场,一起共研共享,探索“芯”未来!点击链接,了解详情:http://w.lwc.cn/s/M3INb2

新年展望

告别2022,迎来2023,《半导体芯科技》(SiSC)杂志特别推出—“新年展望(2023 Outlook)”邀稿,邀请半导体产学研资深专家学者等擘画未来,激励行业奋进的脚步。点击链接,立即免费投稿:http://w.lwc.cn/s/ZJZjui



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