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     首页 > 新闻资讯  > 制造与封装 > 制造工艺

真空技术赋能微观材料科技,推动诸多领域发展未来可期

2023/5/10 9:33:22

来源:普发真空

n 生活质量在提高,生产工艺在提高

n 厦门韫茂是这样的公司,在几大领域有着突出的贡献

n 要实现高质量发展,设备中需要真空,普发真空提供了帮助

n 通过我们的产品组合和know-how帮助这样的企业一同进步,实现成长是我们最大的优势

随着新材料的应用和科技的进步,我们的生活也正在发生翻天覆地的变化,从居家办公到日常出行,随着技术的不断突破和创新,也给我们的生活质量带来了很大的提升。燃油车被越来越多的电动汽车所取代,推动着交通出行以更加可持续的方式发展;随处可见的显示器,也一次次突破极限,展示更清晰、精准和高质量的画面。还有很多新材料的应用也正在从实验室级别的研发走向产业化和规模化的道路。这些技术的应用都离不开真空技术。

现如今真空镀膜技术在新材料应用领域的使用非常广泛,通过对现有材料表面的真空镀膜而改变其材料的极限,从而在不增加太多成本的情况下大大的提高了材料原有的极限能力,让生产出来的产品在体积、质量和成本没有发生太多变化的同时,性能得到了质的飞跃。原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition, ALD),就是这一技术最常见的应用之一,是先进的纳米表面处理技术。通过ALD工艺,可以在单原子范围内沉积涂层,因此可以在纳米尺度上进行控制。原子层沉积设备已在新能源动力电池正极材料的包覆,半导体集成电路产业,微机电系统和其他纳米技术应用提供了广阔的应用平台。

MICRO-LED提升了显示技术

从显像管到LED,显示的精度和由此带来的视觉感官享受不断提升。进入LED时代后,产品技术也在不断更新迭代。而在已知的技术当中,Micro-LED被誉为是“终极的显示技术”,其所占体积更小、混光距离更短、亮度和对比度更高、功耗更低、寿命更长。Micro-LED是将LED结构设计进行薄膜化、微小化、阵列化,常需要用到溅射工艺来生成薄膜结构,而后在此基础上进行后续加工。

在更多的高精尖领域,是超高真空设备的用武之地,涡轮分子泵则在其中起到了关键作用。例如科研超导应用当中,常需要纳米级的覆膜来辅助构成科研项目所需的各种模型结构。

厦门韫茂就是这样一家创新型高端纳米装备制造技术企业。专注于研发及生产UHV超高真空镀膜装备,ALD原子层成膜系统、PVD、IBE离子束刻蚀系统等一系列微纳加工设备。韫茂专注于新材料的包覆和量产,满足客户定制化的要求,同时不断探索先进工艺和自有知识产权,成为了这一领域的小巨人企业。

在ALD设备,Micro-LED连续线和超高真空镀膜设备的生产中,普发真空作为韫茂的合作伙伴,凭借着丰富的真空专业知识的积累和广阔的产品组合,助力厦门韫茂实现高质量稳定的真空环境。

粉末ALD设备

应用领域:锂电池粉末或极片,金属粉末,荧光粉粉末等粉体包覆。

目前已有设备:GM系列百克级粉末ALD系统、KG系列公斤级粉末ALD系统,即将推出吨级粉末ALD系统

 

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如图:GM克级粉末ALD系统

Cbatch系列ALD

连续通过式多腔体结构,全自动化传输,主要用于大批量生产,现已用于LED行业。

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超高真空设备

产品:QBT-J(四腔电子束蒸发系统)\QBT-P(两腔溅射系统)\QBT-4(两腔热蒸发系统)\QBT-A(等离子体增强ALD系统)

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如图:QBT-J全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

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如图:普发真空HiPace 2300涡轮分子泵用于超高真空系统

 

普发真空提供一站式真空解决方案,助力厦门韫茂实现产品功能

 

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HiScroll涡旋泵

静音、高效、无油

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A4系列整体式干泵

高能效,温度控制范围广,耐腐蚀材料工艺泵,智能监控系统

 

image.png 

HiPace系列涡轮分子泵

高压缩比,抽速高,安全稳定,体积小巧

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PKR 361全量程真空计

测量范围广,极低的外部磁场,试用范围广

韫茂科技总经理赵茂生先生表示道:“材料科技的进步推动着科研、创新和生产。面对日益提升的性能需求,微观层面的技术显得愈发重要,甚至有可能帮助突破传统技术的瓶颈。真空技术所保障的纯净环境对微观精密做业是不可或缺的。我们很高兴能与普发真空保持合作,以其先进丰富的真空设备来帮助我们的产品实现更加优异的性能,进而为更多科研机构和院校,以及下游产业等单位服务,助其攻克更多高精尖技术,提升产品性能,惠及更多用户。我们更期待藉此实现革命性的突破,最终造福全人类。希望普发真空能为我们带来更多优秀的产品和技术,与我们携手前行。”

 

苏州会议

雅时国际(ACT International)将于2023年5月,在苏州组织举办主题为“2023-半导体先进技术创新发展和机遇大会”。会议包括两个专题:半导体制造与封装、化合物半导体先进技术及应用。分别以“CHIP China晶芯研讨会”和“化合物半导体先进技术及应用大会”两场论坛的形式同时进行。详情点击链接查看:https://w.lwc.cn/s/7jmaMn




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