日本首台ASML EUV光刻机将运抵,用于Rapidus晶圆厂试产
2024/11/19 8:48:05
据日媒报道,日本半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场,这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。
据Rapidus高管此前透露,该光刻机是较早期的0.33 NA型号,而非目前全球总量不足10台的0.55 NA(High NA)款。
按Rapidus此前的规划,该公司计划于2025年4月启动先进制程原型线,该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备。根据千岁市当地政府的说法,Rapidus 的 IIM-1 晶圆厂截至上月底已完成63%的施工进度。
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