BusinessNews
是德研讨会
  • 首页
  • 英文版
  • 电子读物
  • 晶芯研讨会
  • 白皮书
  • 多媒体
    • 视频
    • 图集
  • 展会信息
  • 媒体信息
    • 完整版 Entire
    • 概述 Introduction
    • 发行 Circulation
    • 编辑计划 Editorial Calendar
    • 广告 US $ Advertising
  • 关于我们
    • 联系我们
  • 捷径:
  • 新闻动态
  • 采访报道
  • 制造与封装
  • 设计与应用
  • 设备与材料
  • 产业与市场
  • 产品特写
  • 展会与活动

当前位置:

     首页 > 新闻资讯  > 产品特写

泛林集团推出晶圆应力管理解决方案

2019/8/15 11:29:19

泛林集团推出晶圆应力管理解决方案以支持3D NAND技术的持续发展


近日,全球领先的半导体制造设备及服务供应商泛林集团宣布推出全新解决方案,帮助客户提高芯片存储密度,以满足人工智能和机器学习等应用的需求。通过推出用于背面薄膜沉积的设备VECTOR® DT和用于去除背面和边缘薄膜的湿法刻蚀设备EOS® GS,泛林集团进一步拓展了其应力管理产品组合。

 

1.jpg

泛林集团推出晶圆应力管理解决方案以支持3D NAND技术的持续发展

 

高深宽比沉积和刻蚀工艺是实现3D NAND技术持续发展的关键因素。随着工艺层数的增加,其累积的物理应力越来越大,如何控制由此引起的晶圆翘曲已成为制造过程中的一个主要挑战。严重的晶圆翘曲会影响光刻焦深、层与层之间的对准、甚至导致图形结构畸变,从而降低产品的良率。为了提高整体良率,需要对整个制造工艺中多个步骤在晶圆、晶片和图形层面的应力进行细致管理,甚至因此放弃一些可提升产品性能的工艺步骤。

 

VECTOR DT系统是泛林集团等离子体增强化学气相沉积(PECVD)产品系列的最新产品,旨在为控制3D NAND制造中的晶圆翘曲提供一种高性价比的解决方案。在完全不接触晶圆正面的情况下,VECTOR DT可在晶圆背面沉积一层可调节、高应力、高质量的薄膜,一步到位地拉平翘曲的晶圆,改善光刻结果,减少由翘曲引起的诸多问题。VECTOR DT问世之初便得以广泛采用,随着主流3D NAND产品向96层以上推进,其机台安装数量将会持续增长。

 

除了沉积高应力薄膜,泛林集团还提供了背面刻蚀的技术,客户可根据工艺需要,在3D NAND制造流程中灵活地调整晶圆应力。泛林集团的湿法刻蚀产品EOS GS拥有业界领先的湿法刻蚀均匀度,能在充分保护晶圆正面的前提下,同时去除背面和边缘的薄膜,与VECTOR DT形成有力互补。作为晶圆翘曲管理解决方案的一部分,泛林集团的EOS GS也被全球存储芯片制造商广泛采用。

 

泛林集团副总裁兼沉积产品事业部总经理Sesha Varadarajan表示:“随着客户产品的存储单元层数持续、大幅的增加,累积应力和晶圆翘曲会超过光刻设备处理能力的极限。为了达到预期良率,实现单位字节成本降低的路线图,将应力引起的畸变降至最低至关重要。伴随VECTOR DT和EOS GS产品的推出,我们扩大了现有的应力管理解决方案组合,能够全面管理晶圆生产中的应力,支持客户纵向技术的持续发展。”

 

 

关于泛林集团

泛林集团(纳斯达克股票代码:LRCX)是全球半导体产业创新晶圆制造设备及服务主要供应商。作为全球领先半导体公司可信赖的合作伙伴,我们结合了卓越的系统工程能力、技术领导力,以及帮助客户成功的坚定承诺,通过提高器件性能来加速半导体产业的创新。事实上,当今市场上几乎每一颗先进的芯片都使用了泛林集团的技术。泛林集团是一家美国财富500强公司,总部位于美国加利福尼亚州弗里蒙特市,业务遍及世界各地。欲了解更多信息,请访问:www.lamresearch.com。

 




本网站部分文章转载自网络,如涉及侵犯版权,请联系我们,我们立即删除。联系电话:0755-25988571

上一篇:新型高性能HiLobe®罗茨泵

下一篇:BTU International将展示配置冗余处理监控器的回流焊炉

相关资讯

BrewerBOND 双层临时键合系统和 BrewerBUILD 材料

2018/9/11 16:51:27

183

全新TIM材料应对电子行业百年散热难题

2018/7/14 12:22:37

183
2019深圳机械展
ILAC
2020广州国际物流装备与技术展览会

本期内容

2019年10/11月刊

订阅期刊

过刊查询

Tags

  • FD-SOI
  • AI
  • 5G
  • IoT
  • 汽车电子
  • IoT
  • LED, 封装
  • 等离子刻蚀
  • 功率器件制造
  • 无人驾驶

赞助商

 
 
 
友情链接
回到顶部

Copyright© 2019:《半导体芯科技》; All Rights Reserved.      粤ICP备12025165号