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上海精测推出eView™全自动晶圆缺陷复查设备

2020/12/25 8:30:51

  • eView™全自动晶圆缺陷复查设备是扫描电子显微缺陷复查和分类设备,具有领先的高分辨率电子束成像能力和自动缺陷分类能力;

  • eView™全自动晶圆缺陷复查设备是国内首台拥有完全自主知识产权的半导体前道检测设备;

上海精测半导体技术有限公司(简称“上海精测半导体”)宣布推出首款半导体电子束检测设备:eView™全自动晶圆缺陷复查设备,并于12月24日正式交付国内客户,助力半导体产业国产化。

该设备是基于扫描电子显微镜技术的复查和分类的设备,应用于集成电路制造过程,可对光学缺陷检测设备的结果进行高分辨率复查、分析和分类,满足10xnm集成电路工艺制程的需求。

上海精测eView.png


随着半导体集成电路工艺节点的推进,作为晶圆厂制程控制主力设备的光学缺陷检测设备的解析度已无法满足大规模生产和先进制程开发需求,必须依靠更高分辨率的电子束复检设备的进一步复查才能对缺陷进行清晰地图像成像和类型的甄别,从而为半导体制程工艺工程师优化制程工艺提供依据。

eView™采用了自主开发的扫描电子显微镜技术,具有超高的的分辨率,适用于10xnm及以下集成电路制程的工艺缺陷自动检测。

除了高分辨率电子束成像能力外,利用自主开发的基于深度神经网络(DNN)的人工智能算法进行缺陷自动识别与分类,突破常规的基于机器学习的分类算法,极大提高晶圆缺陷分类的准确度。并采用全新的超低电压EDSX射线探测技术,突破常规设备EDS使用电压的限制,实现轻量元素的高分辨率解析能力。




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