2021/9/19 9:27:51
9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求，同时将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺，在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展做出更多的贡献。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。
上海微电子今日宣布推出了新一代大市场，高分辨率先进封装光刻机，这款光刻机根据官方描述，主要应用于高密度异构集成领域，并且拥有高分辨率、高套刻精度和超曝光视场。这款光刻机专利能够提高光刻机的分辨率，并提升光刻机的性能。
光刻机是生产处理器的核心生产工具，光刻机能够通过光学形式，将精细图像通过曝光的形式印制到硅晶圆上，从而实现高端芯片集成电路的生产。制造高端光刻机的工艺难度相当大，市场垄断也很明显，世界上拥有该技术的公司仅仅只有数家而已。
因此美国对中国的制裁就主要集中在光刻机和芯片技术上，中国必须通过独立自主的方式来获得属于自己的芯片研发生产及制造能力。而上海微电子就是中国最为优秀的光刻机生产企业之一，目前其已经能够生产28nm制程工艺的光刻机，且有消息称该公司已经能够生产14nm的光刻机，只是成熟度还未能达到实用化。
当然相信如今在芯片上的窘境只是暂时的，未来我们在芯片技术上的逐步突破显然会解决这些问题，未来将有机会在完全脱离国外技术的前提下，打造出高性能的智能手机以及电脑处理器。
声明：本网站部分文章转载自网络，转发仅为更大范围传播。 转载文章版权归原作者所有，如有异议，请联系我们修改或删除。联系邮箱：viviz@actintl.com.hk， 电话：0755-25988573
