12月26日，普照材料8.6代及以下高精度掩模基板项目产业园正式开工。

普照材料高精度掩模基板项目将投资人民币18亿元，分为两期建设，一期投资8亿元，建设平板显示用8.6代及以下高精度掩模基板项目，二期投资10亿元，建设半导体用高精度掩模基板项目，最高可满足28nm制程。据介绍，项目建成后，普照材料将成为国内规模最大、实力最强的掩模基板企业之一。

项目

此次普照材料开工的一期8.6代及以下高精度掩模基板项目，将引进高端的智能化数字化生产设备，建成高世代掩模基板生产线。总用地面积39979平方米，总建筑面积53678.05平方米，产品可满足LTPS、LTPO、AMOLED、Micro LED等多种平板显示掩模基板需求，计划2025年12月开始投产。

项目二期预计于2025年启动建设，建成后产品可满足半导体130nm-28nm制程用掩模基板需求，计划2026年投产。项目投产后，将极大提升普照材料的产能和技术水平，优化产业结构，促进智能化转型升级，增强其市场竞争力。

普照材料创立于2003年8月，位于长沙国家高新技术产业开发区麓谷，由湖南电子信息产业集团有限公司控股，最终控制主体为湖南湘投控股集团有限公司。建成能够生产75×75mm至700×800mm各种规格的溅射匀胶铬版生产线，产品广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等多种产业的光掩膜制作。

今年1月，国调基金与深创投联合领投普照材料A轮融资，为其建设新一代掩模基板产线提供资金支持，加速集成电路和平板显示产业上游重要材料光掩模版及掩模基板的国产化进程。

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